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上海微电子装备(集团)股份有限公司

  • 2026-06-15

上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE),2002 年 3 月 7 日成立于上海张江,是中国唯一专注于高端光刻机整机研发与量产的国企,主营半导体光刻设备,覆盖前道制造、先进封装、LED/MEMS三大领域。

基本信息

全称:上海微电子装备(集团)股份有限公司。

成立:2002 年 3 月 7 日,上海张江高科技园区。

性质:国有控股,隶属上海电气集团,国家级专精特新 “小巨人”。

使命:打破海外垄断,实现光刻设备自主可控。

核心产品与地位

前道光刻机:SSA600 系列(90nm~280nm)已量产;28nm 浸没式 DUV(SSA800)2025 年交付;EUV 极紫外预研中。

先进封装光刻机:全球市占约 37%、国内超 85%,领先全球;2.5D/3D 机型支撑 AI 芯片高端封装。

LED/MEMS 光刻机:全球市占超 55%,细分领域冠军。

客户与荣誉

客户:中芯国际、华虹、长电科技、三安光电等。

荣誉:国家技术创新示范企业、制造业单项冠军、02 专项核心承担单位。



发展历程

2002 年:公司成立,主攻光刻机 “卡脖子” 技术。

2009 年:首台先进封装光刻机 SSB500/10A 交付,打破海外垄断。

2012 年:SSB500 系列实现海外销售,进入国际市场。

2016 年:交付国内首台前道扫描光刻机,进入 IC 制造核心领域。

2017 年:02 专项 “浸没光刻机关键技术预研”“90nm 光刻机样机” 通过验收。

2018 年:90nm 干式 DUV 光刻机正式量产,填补国内空白。

2022 年:首台 2.5D/3D 先进封装光刻机发运,对标 AI 芯片高端需求。

2025 年

5 月:28nm 浸没式 DUV 光刻机(SSA800)首台交付,进入批量阶段。

10 月:工博会首次公开EUV 极紫外光刻机参数,预研取得关键进展。

12 月:中标 1.1 亿元高端光刻机采购,商业化落地加速。

2026 年:推进 28nm 机型良率提升与 EUV 技术攻关,巩固国产光刻龙头地位。








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2026/6/15