一、公司基础概况

1. 工商核心信息

全称：深圳稳顶聚芯技术有限公司

成立时间：2023 年 05 月 24 日

法定代表人：陈海霞

注册地址：深圳市南山区粤海街道深港产学研基地 W801

注册资本：125.06205 万元人民币，企业状态：存续

统一社会信用代码：91440300MA5HWRF56N

行业定位：半导体光刻设备研发、生产、销售，专精特新高新技术小微企业

2. 企业定位与核心业务

稳顶聚芯是国内专注化合物半导体、特色工艺步进式光刻机的国产设备厂商，品牌代号 WONDER SIGHT，聚焦成熟特色工艺赛道实现光刻装备国产替代，避开先进逻辑芯片赛道，主攻第三代半导体、显示、光电子、MEMS 等细分市场。

核心主力产品：WS180i 系列高精度步进式光刻机

适配 SiC/GaN 功率器件、Mini/Micro LED、光芯片、射频器件、MEMS 传感器；兼容硅片、蓝宝石、碳化硅、氮化镓等各类衬底，光刻分辨率 1–3μm，覆盖新能源、车载功率半导体产业链。

配套检测与核心子设备

套刻量测机（量测精度 10nm）、薄膜测厚设备、晶圆传输机械手、主动减震平台、光学成像评价系统、离轴对准模组、高精度快门与可变光阑组件等，形成光刻全链路配套能力。

核心自研技术壁垒

全自主光刻机曝光控制软件、掩模 / 晶圆传输系统、高精度对准算法（全套操作系统国产化，无国外底层依赖）；

超精密光学系统设计与装调、纳米级工件台运动控制、特种高压光源电源；

布局 30 余项发明专利，覆盖光路、机械、传动、量测、控制全链条，4 项光刻系统软件著作权。

3. 团队与产线实力

研发团队：85% 以上成员为海内外名校硕士，核心骨干来自中科院、清华及全球头部半导体设备企业，拥有 20 年以上光学、精密机械、光刻装备研发经验；

生产基地：深圳 2000㎡研发制造基地，配备十级 / 百级 / 千级分级洁净装配实验室；2025 年设备设计产能 20 台 / 年；

人员规模：2024 年末参保员工 37 人，以光学、机械、电控、算法研发人员为主。

4. 资质荣誉（截至 2026 年 6 月）

国家级：科技型中小企业、高新技术企业；

省级：专精特新中小企业、省级科学技术进步奖；

知识产权：专利 30 件、商标 17 项、光刻系统软件著作权 4 项。

5. 融资资本进展

公司成立后快速完成多轮机构融资，投资方包含普禾资本、凯鼎投资等专业硬科技 VC：

A 轮、A + 轮：完成初代设备研发、洁净车间搭建；

2026 年 3 月完成 B 轮融资，资金用于 WS180i 光刻机量产迭代、市场客户认证拓展；

2026 年中推进 B + 轮，扩大产能与产品线研发。

二、完整发展历程（2023–2026）

2023 年：公司创立，底层技术攻坚期

5 月 24 日，深圳稳顶聚芯正式注册成立，团队组建完成，确立 “特色工艺光刻机国产替代” 路线；

下半年完成初代接触式 / 接近式 Mask Aligner 光刻机整机设计，突破光学镜头、晶圆传输、整机控制软件三大核心模块；

入选深圳市国家级科技型中小企业名单，启动洁净实验室装修与核心零部件供应链国产化验证；

完成首轮 A 轮融资，搭建机械、光学、电控三大研发实验室，启动离轴对准、高精度快门专利布局。

2024 年：设备原型验证，专利与资质落地

完成初代步进式光刻机工程样机组装、整机联调，攻克可变矩形光阑、高度测量补偿等关键结构；

持续输出光刻机光路、工件台、量测相关专利，全年新增专利 20 余项，完成曝光系统、晶圆传输系统软件著作权登记；

通过企业高新企业前期培育，搭建完整供应链体系，完成多家功率半导体、LED 厂商小批量样机送样测试；

扩充洁净车间至 2000㎡，形成小批量装配调测能力，员工规模稳定至 37 人；

完成 A + 轮融资，优化 WS180i 机型工艺适配能力，兼容厚胶、化合物衬底特殊光刻场景。

2025 年：里程碑之年，首台商用光刻机下线

全年持续迭代 WS180i 步进式光刻机，设备通过多家头部化合物半导体工厂严苛工艺认证；

9 月 23 日重大节点：自主研发首台 WS180i 高精度步进式光刻机正式出厂，填补国内中低端步进光刻设备国产化空白，大幅降低国内功率器件、Mini LED 产线对进口光刻机依赖；

获评国家级高新技术企业、省级专精特新中小企业，斩获省级科技进步奖项；

释放年产 20 台设备产能规划，启动全国半导体客户市场拓展，锁定新能源车载 SiC、光通信芯片批量订单意向；

量产配套量测、薄膜检测设备同步推向市场，形成 “光刻主机 + 检测设备” 成套解决方案能力。

2026 年：规模化融资，产品线迭代扩张（截至 6 月）

3 月完成 B 轮风险融资，资金用于量产产线扩建、新一代机型研发、全国客户技术服务网点搭建；

持续迭代 WS180i 机型，优化套刻精度、衬底兼容性，同步开发更高分辨率二代步进光刻机预研；

批量交付商用光刻机至国内多家第三代半导体、显示芯片工厂，设备稼动率与工艺指标获客户验证；

持续新增光刻机光路、杂散光抑制、自动对准相关实用新型与发明专利，完善知识产权壁垒；

启动 B + 轮融资筹备，规划拓展 MEMS、射频器件专用光刻设备产品线，延伸泛半导体市场覆盖。

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深圳电商商业股份有限公司

2026/6/17