苏州苏大维格科技集团股份有限公司2001年10月注册，2012年在深交所上市，是一家以自主研发的三维光刻设备为核心驱动力，面向信息光子和新型显示领域，进行光电子材料/器件研究和产业化的股份制民营企业。目前公司已发展成为1总部+1创新中心+15个控股子公司，拥有近20万平米厂房，占地600余亩的集团企业。

         苏大维格在大面积微纳三维光刻、纳米光刻、纳米压印、纳米结构功能化、功能材料的数字设计等方面，已形成显著特色和优势，系统提出并实现微纳制造领域原创基础技术、先进算法和重大工艺装备，打破对外依赖，成为微纳制造领域少数具有核心竞争力的创新性企业。

发展历程

1. 初创期（2001—2008）：产学研起步，突破防伪核心技术

2001 年：10 月 25 日，陈林森教授团队联合苏州大学等创立 “苏州苏大维格数码光学有限公司”，扎根微纳光学产学研转化。

2002 年：研发定向光变色膜，成功应用于第二代身份证视读防伪，获国家科技进步奖二等奖。

2004 年：中标二代身份证防伪项目，成为国家级证卡核心技术供应商。

2007 年：推出HoloScanV 光刻系统，建立镭射转移膜产线，获江苏省科技进步一等奖。

2008 年：整体变更为股份公司；UV 光学膜量产，应用于北京奥运会邮票防伪。

2. 成长期（2009—2016）：上市融资，拓展显示与触控

2012 年：6 月 28 日，深交所创业板上市（300331），成为江苏高校首家创业板公司。

2013—2015 年：布局中大尺寸电容触控（维业达）、AR 光波导、裸眼 3D 显示；收购常州华日升，切入交通反光材料领域。

2016 年：更名为 “苏州苏大维格科技集团股份有限公司”，确立集团化发展架构。

3. 扩张期（2017—2022）：多元布局，深耕微纳制造

2017—2019 年：盐城、南通基地投产，扩大光学膜与光刻装备产能；研发柔性纳米压印技术，应用于折叠屏与柔性电路。

2020—2022 年：进军半导体检测设备，开发 STORM 系列光掩模缺陷检测设备；布局Metalens（超透镜）、光伏图形化设备。

4. 跃升期（2023— 至今）：半导体突破，迈向全球竞争

2023 年：收购常州维普半导体，技术延伸至半导体高端装备；STORM 设备获中芯国际等头部客户认可。

2025 年：获评国家级制造业单项冠军；营收20.4 亿元，微纳光学设备与器件占比87.5%。

2026 年：被评为市级创新领军企业先进技术研究院；持续推进半导体检测、AR/VR 核心器件国产化。

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2026/6/13